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    那種原因會影響91蜜桃视频在线播放機iTO薄膜
    發布時間:2014-08-15 瀏覽:  次

      ITO薄膜在濺鍍過程中會產生不同的特性,有時候表麵光潔度比較低,出現“麻點”的現象,有時候會出現高蝕間隔帶。

      在蝕刻時還會出現直線放射型缺劃或電阻偏高帶,有時候會出現微晶溝縫。

      各種特性的產生一般取決於靶材和玻璃的選用,濺鍍時所使用的溫度和運動方式。

      當前常用的ITO靶材製作是通過燒結法生產的,就是由氧化銦(In2O3)和氧化錫(SnO2)粉末按照一定的比例進行混合,通常質量比是90%In2O3和10% SnO2,再通過一係列的生產工藝加工成型後,以1400℃~1600℃高溫通氧氣燒結,最終形成的黑灰色陶瓷半導體(氧化銦錫,ITO)。

      一般通過外觀就可以了解ITO靶材的質量,深灰色是最好的,相反越黑質量越差,我國生產的ITO靶材質量還可以的是黑灰色的。

      經過研究,在91蜜桃视频在线播放機ITO薄膜濺鍍過程中,使用磁控濺射的方式,基底溫度控製在200℃左右可以保證薄膜85%以上高可見光透過率下,電阻率達到最低,而薄膜的結晶度也隨著基底溫度的提高而提高,晶粒尺寸也逐漸增大。

      超過200℃後透射率趨於減弱;使用電子束蒸鍍的方式,隨著退火溫度升高,晶粒尺寸變大,表麵形貌均一穩定,超過600℃後顆粒變得大小不一,形狀各異,小顆粒團聚現象嚴重,薄膜表麵形貌破壞。

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