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    蒸發鍍膜設備工作方式就是置待鍍材料和被鍍基板於真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發、升華，並飛行濺射到被鍍基板表麵凝聚成膜的工藝.

    在真空條件下成膜可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中於分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

    通常真空蒸鍍要求成膜室內壓力等於或低於10-2Pa，對於蒸發源與基板距離較遠和薄膜質量要求很高的場合，則要求壓力更低。

蒸發鍍膜設備

1. 關閉泵加熱係統，然後分離蒸鍍室（主要清潔灰塵，於蒸鍍殘渣）
2. 關閉電源或程序打入維護狀態。真空蒸發鍍膜機
3. 清潔卷繞係統（幾個滾軸，方阻探頭，光密度測量器）
4. 清潔中罩室（麵板四周）。濺控濺射鍍膜機
5. 泵係統冷卻後打開清潔（注意千萬不能掉入雜物，檢查泵油使用時間與量計做出更換或添加處理）
6. 檢查重冷與電氣櫃設備。立式單開門鍍膜設備

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